流体辅助微纳抛光原理与技术
作者：程灏波 著
出版时间：2014年版
内容简介
　　《流体辅助微纳抛光原理与技术》结合著者科研团队多年在流体辅助抛光技术领域的研究和经验，对目前应用较为广泛的流体辅助抛光方法从浅到深进行系统的介绍。不仅包括了技术的发展和加工机理，而且介绍了相关的加工系统和目前最新的工艺研究成果，使读者对前人的工作能够全面的认识和理解。全书共分为九章。其中从而二章开始每一章为读者介绍一种流体辅助抛光技术。有第二章开始一次介绍了磁介质辅助研抛技术、第三章讲述磁流变抛光技术、电流变抛光技术、气射流抛光技术、磨料水射抛光技术、磁射流抛光技术、浮法抛光技术、化学抛光。
目录
第1章 绪论
1.1 概述
1.2 流体辅助抛光技术的分类
1.3 流体辅助抛光技术的发展
第2章 磁介质辅助加工
2.1 磁场辅助抛光技术
2.2 磁性液体抛光技术
2.3 磁力研磨技术
参考文献
第3章 磁流变抛光
3.1 概述
3.2 磁学理论基础
3.3 抛光系统与模型
3.4 磁流变抛光液
3.5 工艺研究
3.6 小结
参考文献
第4章 电流变抛光
4.1 概述
4.2 电流变液体
4.3 电流变抛光液
4.4 电流变抛光模型
4.5 装置设计与分析
4.6 工艺研究
4.7 小结
参考文献
第5章 气射流抛光
5.1 概述
5.2 基本原理
5.3 加工机理与技术
5.4 加工仿真与实验研究
5.5 小结
参考文献
第6章 水射流抛光
6.1 概述
6.2 基本原理与特点
6.3 论模型
6.4 工艺研究
6.5 小结
参考文献
第7章 磁射流抛光
7.1 概述
7.2 流体动力学理论基础
7.3 液柱保形机理
7.4 去除函数模型与特性
7.5 工艺研究
7.6 加工装置
7.7 小结
参考文献
第8章 浮法抛光
8.1 概述
8.2 机理与模型
8.3 工艺研究
8.4 小结
参考文献
第9章 化学抛光
9.1 概述
9.2 机理与原理
9.3 加工设备
9.4 小结
参考文献