GB∕T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。本标准特别适用于位于品片表面约5nm 深度内的表面金属玷污的测试。本标准适用于面密度范围在(10^9～10^(14))atoms/cm^2的Na、Al、K和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的不同而不同。

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