射频磁控溅射法制备La_(0.9)Sr_(0.1)Ga_(0.8)Mg_(0.2)O_(3-δ)电解质薄膜的研究

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资源类别: 材料
关键词: 射频   薄膜   法制   磁控溅射   电解质
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射频磁控溅射法制备La_(0.9)Sr_(0.1)Ga_(0.8)Mg_(0.2)O_(3-δ)电解质薄膜的研究
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