T/ZJATA 0017-2023 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

文件格式： PDF文档
文件大小： 2.74 MB
语言版本： 简体中文
标准类别： 团体标准
关键词： 制备   沉积   化学   设备   碳化硅
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标准简介

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适用范围：本文件规定了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备的生产标准与质量检测规范，适用于产品制造的设计、制造与出厂检验。

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